4 月 26 日消息，據(jù)外媒 Tom's Hardware 昨日?qǐng)?bào)道，初創(chuàng)公司 Atum Works 最近宣稱(chēng)，其納米級(jí) 3D 打印技術(shù)有望替代現(xiàn)有的生產(chǎn)流程，進(jìn)而將芯片制造成本降低 90%。

不過(guò)，這項(xiàng)技術(shù)有一個(gè)限制：盡管在封裝、光子學(xué)和傳感器領(lǐng)域可能足夠應(yīng)用，但對(duì)于邏輯芯片而言，它的技術(shù)已經(jīng)滯后了 20 年。

據(jù)報(bào)道，現(xiàn)代芯片與建筑物相似，擁有多個(gè)層級(jí)、不同類(lèi)型的模塊和復(fù)雜的通信網(wǎng)絡(luò)。每一款先進(jìn)的芯片都需要通過(guò)一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程制造，涉及成千上萬(wàn)的步驟和數(shù)百種專(zhuān)用工具，因此制造成本相當(dāng)高昂。

Atum Works 表示，公司已經(jīng)研發(fā)并制造出一款納米級(jí) 3D 打印機(jī)，可以在晶圓級(jí)別材料上以 100 納米的分辨率打印多材料 3D 結(jié)構(gòu)。與傳統(tǒng)的平面光刻工藝不同，傳統(tǒng)工藝是通過(guò)光掩模將電路圖案轉(zhuǎn)印到硅晶圓上，而 Atum Works 的技術(shù)則是在三維空間中精準(zhǔn)地將材料沉積到指定位置。這一創(chuàng)新使得集成電路的制造成為可能，并能將互連等結(jié)構(gòu)在一個(gè)連續(xù)的流程中形成，相比傳統(tǒng)方法，有望提高生產(chǎn)的良率。

目前的 EUV 光刻技術(shù)分辨率大約為 13 納米（如應(yīng)用的 Sculpta 工具能夠?qū)呙杵魉傻膱D案進(jìn)行增強(qiáng)，精度可達(dá)到 1~2 納米），而現(xiàn)代的刻蝕技術(shù)在垂直方向上也能達(dá)到亞 10 納米的精度。據(jù)IT之家了解，100 納米分辨率的技術(shù)曾適用于 2003 至 2005 年間的 90 納米至 110 納米工藝。

Atum Works 的 3D 打印技術(shù)并不完全適用于高性能處理器的制造。然而，這種納米級(jí) 3D 打印技術(shù)有望在封裝、光子學(xué)、互連結(jié)構(gòu)、傳感器和非邏輯元件等領(lǐng)域找到應(yīng)用。在這些領(lǐng)域中，復(fù)雜的 3D 設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)可能大于對(duì)極小特征的需求。

Atum Works 目前正在與潛在客戶(hù)積極洽談，計(jì)劃在今年內(nèi)開(kāi)始交付首批產(chǎn)品。英偉達(dá)是該公司的初期合作伙伴之一，雙方還簽署了合作開(kāi)發(fā)意向書(shū)。